 
    主要型(xíng)號:
| 型號 | 功(gōng)率(W) | 工作電壓(V) | 最大峰值電流(A) | 外形尺寸 | 冷卻(què)方式(shì) | 
| MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 | 
| MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
| MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 | 
主要(yào)特點:
   A 可選擇三角(jiǎo)波、矩形(xíng)波、正弦波三種波形,波形的最高值和最低值可獨立設置。
   B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
   C波形頻率範圍:0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬(kuān)調製技術(shù),使用進(jìn)口IGBT或(huò)MOSFET作為功率(lǜ)開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善(shàn)。
該係列產品采用先進的DSP控製係(xì)統,充(chōng)分保證鍍膜工藝的重複(fù)性,
並且具有抑(yì)製靶(bǎ)材弧光放電及抗短路功(gōng)能,
具有極佳的(de)負載匹配能力,既保證了靶麵清洗工藝的穩定性,又提高了靶麵清洗速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方(fāng)便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功(gōng)能,方便實現自動化控製。
主要用途:
MS係列勵磁多波(bō)形電源選擇多種電壓波形輸(shū)出。通過驅動多弧(hú)靶(bǎ)外圍磁場線圈,產生周期(qī)性可變磁磁場,使多(duō)弧輝光由原來的集中(zhōng)放電變為均勻放電,提高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠家告訴你高頻開關電鍍電源應(yīng)用在金(jīn)屬表麵處理及小功率範圍內的國內市場已經接受,具有廣(guǎng)闊(kuò)的市場前景。但產品主要局限於1500A以(yǐ)下的中(zhōng)小功率(lǜ)領域,在國內也(yě)隻有少(shǎo)量廠家生產,從技術角度看主要限於硬開(kāi)關變換模式和模擬控製方(fāng)式(shì),可(kě)靠性、EMC及工藝結構等方麵(miàn)具有明顯的局限性,同焊接(jiē)等領域全麵(miàn)推廣應用開關(guān)式電源的景況具有較大差距。
真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非(fēi)金屬(shǔ)材料,使(shǐ)其蒸(zhēng)發並凝結於鍍件(金屬、半(bàn)導體或絕緣體)表麵而形(xíng)成薄膜的一種方法。
真空鍍膜(mó)這一塊是(shì)真空應用領域的重要方麵,在真空中以真空技術為(wéi)基礎,把物理方法(fǎ)和(hé)化學方(fāng)法利用起來,通過吸(xī)收分子束、離子束(shù)、電子束、等離子束、射頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究和實際生產中,為薄膜(mó)製備提供一種新工藝,簡(jiǎn)單的一點來說,要在真(zhēn)空(kōng)中利用合金、金屬或化合(hé)物進行蒸發和濺射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行凝(níng)固(gù)並(bìng)沉積,這種方法稱為真空鍍膜,那真空(kōng)鍍膜電源(yuán)就可想而知,眾所周(zhōu)知,在一些材料的表麵上鍍(dù)上一層薄膜,就可以使這種材料(liào)具有(yǒu)多種(zhǒng)性能,例如良好的物理和化學性能並且是嶄新的(de);
 
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