北京（jīng）MSDP單極脈衝磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 明顯改善靶（bǎ）麵電荷積累（lèi）現（xiàn）象，減小濺射表麵的打火次數，提高膜層質量。
   B 具有平均電源（yuán）穩（wěn）定功能，具有理想的電壓陡降特性，
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續性。
   C 空載電（diàn）壓≥1000V，工作電壓（yā）200~800V。
   D 頻率40kHz，占空比20%~80%。
   E 可選擇手動控製/模（mó）擬量接口控製，可選配RS485通（tōng）訊接口。
采用（yòng）先進的（de）PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為（wéi）功率開關器件，
體積小、重量（liàng）輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝（yì）嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控（kòng）製係統，充（chōng）分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電（diàn）及抗短路功（gōng）能，
具有極佳的負（fù）載匹配（pèi）能力，既保證了靶麵清洗工（gōng）藝（yì）的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方（fāng）便維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接口（kǒu）擴展功能，方便實現自動化（huà）控製。

主要用途：

單極脈衝（chōng）磁控濺射適用於金（jīn）屬、合金及石墨等靶材鍍製金屬膜、碳膜和部分氧化物、氮化（huà）物及碳化物膜（mó）。

鏡片在接受鍍（dù）膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子級。在（zài）清洗槽中（zhōng）分別放置各種清洗液，並采用超聲波加強清洗效果，當鏡片（piàn）清洗完後，放進真空艙（cāng）內，在（zài）此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最（zuì）後的清洗是在真空艙內，在（zài）此過程中要特別注（zhù）意避免空氣中的（de）灰（huī）塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最後的清洗是在真空艙內鍍前進行（háng）的，放（fàng）置在真空艙內的離子（zǐ）槍將（jiāng）轟擊（jī）鏡片的表（biǎo）麵（例如用（yòng）氬離子），完成此道清洗（xǐ）工序後即（jí）進行減反射膜（mó）的鍍膜。

真空鍍膜（mó）電源為什麽在現在會應用那麽多呢，有哪些明顯的（de）效（xiào）果？

概念的區別：

1、真空鍍膜是指（zhǐ）在高真空的條件（jiàn）下加熱金屬或非（fēi）金屬材料，使其蒸發並（bìng）凝結於鍍件（金屬、半導體或（huò）絕（jué）緣體）表麵而形成薄膜的一種方法。例（lì）如，真空鍍（dù）鋁、真空鍍（dù）鉻等。

2、光（guāng）學鍍膜是指在光學零件表麵上鍍上一層(或多層)金屬(或介（jiè）質)薄膜的工藝過程。在光學零件表麵鍍膜的目的是為了達到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍（dù）膜（mó）。