 
    主要型號:
| 型號 | 功率(W) | 工作(zuò)電壓(V) | 最大峰值(zhí)電流(liú)(A) | 外形尺寸 | 冷卻方式 | 
| MS-10A | 400W | -40~+40 | -10~+10 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷(lěng) | 
| MS-20A | 800W | -40~+40 | -20~+20 | ||
| MS-30A | 1200W | -40~+40 | -30~+30 | 
主要(yào)特點:
   A 可選擇(zé)三(sān)角波、矩形波、正弦波三種波形,波形的(de)最高值和(hé)最低值可獨立設置。
   B輸出電壓範圍:-40V~+40V。
   C波形頻率範圍:0.1-50Hz
   D三(sān)角(jiǎo)波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口(kǒu)。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體(tǐ)積小、重量輕(qīng)、功能全、性(xìng)能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充(chōng)分保證鍍膜(mó)工藝的重複(fù)性,
並且具有(yǒu)抑製靶材(cái)弧光放電及抗短路功能,
具有極佳的負載匹配能力,既保(bǎo)證了靶麵清洗工藝(yì)的穩定性,又提(tí)高了靶麵清洗(xǐ)速度;
主要參數均可大範圍連續調節;
方便(biàn)維護,可靠(kào)性高;
PLC接口和RS485接口擴(kuò)展(zhǎn)功能,方便實現自動化(huà)控製。
主(zhǔ)要用途:
MS係列勵(lì)磁多波(bō)形電源選擇多種電壓波形輸出。通過驅動多弧靶外圍磁場線圈,產生周期性可變磁磁場,使多弧輝光由原來的集中(zhōng)放電變(biàn)為均(jun1)勻放電(diàn),提(tí)高工件膜層質量

真空鍍膜電源廠(chǎng)家告訴你(nǐ)高頻開關電鍍電源應用在金屬表麵處理及小功(gōng)率範圍內(nèi)的國內市場已經接受,具有廣闊的市場前景。但產(chǎn)品主要局限(xiàn)於1500A以下的中小功率領域,在國內也隻有少量廠家生產,從技術角度看主(zhǔ)要限於硬開關變換模式和模擬控製方式,可靠性、EMC及工藝結構等方麵具有明顯的局限性,同焊接等領域全麵推廣應用開關式電源的景況具有較大差距。
真(zhēn)空(kōng)鍍膜是指(zhǐ)在高真空的條件下加(jiā)熱金屬(shǔ)或非(fēi)金屬材料,使其蒸發(fā)並凝結於鍍件(金屬、半導體或絕(jué)緣(yuán)體)表(biǎo)麵而形成薄膜的一種方法。
真空鍍膜這一塊是真空應用領域的重要方麵,在真空中以真空技術為基(jī)礎,把物理(lǐ)方法和化學方法利用起來,通過吸收分子束、離子束、電子束、等離子束(shù)、射頻和磁控等一係列高新技術,在科學研究和實際生產中,為薄(báo)膜製(zhì)備提供一種新工藝,簡單的一點(diǎn)來說,要在真(zhēn)空中利用合金(jīn)、金屬或化合物進行蒸發和濺(jiàn)射,並讓被塗覆的物體(有基片、稱基板、基體等等)進行凝固並沉積,這種方法稱(chēng)為真空鍍膜,那真空鍍膜電源就可想而知,眾所周知,在一(yī)些(xiē)材料的表麵上鍍上一層薄膜(mó),就可以使這種材料具有多種性能,例如良好的物理和化學性(xìng)能並且是嶄新的(de);