江（jiāng）蘇MS係列（liè）勵磁多波形電源

主要型號：

主要特（tè）點：
   A 可選擇三角（jiǎo）波、矩形波、正弦（xián）波三種波形，波（bō）形的蕞高值和蕞低（dī）值可獨立設（shè）置。
   B輸出電壓範圍：-40V~+40V。
   C波形頻率範圍：0.1-50Hz
   D三角波、矩形波占空比10%~90%
   E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關（guān）器（qì）件，
體積小（xiǎo）、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列產（chǎn）品采用先進的DSP控製係統，充分保（bǎo）證鍍膜工藝的重（chóng）複性，
並且具有抑製（zhì）靶材弧光放電及抗短路（lù）功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既（jì）保證了（le）靶麵清洗工藝的穩定性（xìng），又提高了靶麵清洗速（sù）度；
主要參（cān）數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維（wéi）護，可（kě）靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能（néng），方（fāng）便實現（xiàn）自動（dòng）化（huà）控（kòng）製。

主要用途（tú）：

MS係列勵磁多波形電源（yuán）選擇多種電壓波（bō）形輸出（chū）。通過（guò）驅動多弧靶外圍磁場線圈，產生（shēng）周期（qī）性可（kě）變（biàn）磁磁場，使多弧輝光由（yóu）原來的集中放電（diàn）變為均勻放電，提（tí）高工件膜層質量

現（xiàn）在（zài）工業區，在（zài）範圍（wéi）上擴展的是越（yuè）來越廣（guǎng），跟隨91av行業的發展，現在（zài）機械設備研發的（de）是越（yuè）來越多，當然啦，研發那麽多，在一些加工（gōng）廠家肯定是要應用到的啦，在範圍上，在數量上都不會少，現在91av來了解下真空鍍（dù）膜電源這項項目吧！

1、在光學儀（yí）器中：人們（men）熟悉的光（guāng）學儀器有望遠鏡、顯微鏡（jìng）、照相機（jī）、測（cè）距儀，以及日常生活用品中的鏡子、眼鏡（jìng）、放大鏡等，它們都離（lí）不開（kāi）鍍膜技術（shù），鍍製的薄膜有反射膜、增（zēng）透膜（mó）和吸收膜（mó）等幾種。

2、在信息存儲領域（yù）中：薄膜材料作為（wéi）信息記錄於存儲介質（zhì），有（yǒu）其得（dé）天獨厚的優勢：由於薄膜很薄（báo），可以忽略渦流損耗；磁化反轉極（jí）為迅（xùn）速；與膜麵平行的雙（shuāng）穩態狀態容易保持等。為（wéi）了更精密地記錄與存儲信息（xī），必然要采用鍍膜技術。

3、在傳（chuán）感器方麵：在傳感器中，多采用那些電（diàn）氣性質相對（duì）於物理量、化學量及其變（biàn）化來說，極為敏（mǐn）感的半導體材料。此外，其中，大多數利用的是半（bàn）導體的表麵、界麵的性質，需要盡量增大其麵積，且能工業化、低價格製作，因此，采（cǎi）用薄膜（mó）的情況很多。

4、在集成電路製造中（zhōng）：晶體管路中（zhōng）的保護層（SiO2、Si3N4）、電極管線（多晶矽、鋁、銅及其（qí）合金（jīn））等，多是采用CVD技術、PVCD技（jì）術、真（zhēn）空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻濺射技術。可見，氣相沉（chén）積是製備集成電（diàn）路的核（hé）心技術之一。