北京MSD係列直流磁控濺射電源

主要型（xíng）號：

主要特（tè）點：
   A 采用先進的電（diàn）流型開（kāi）關（guān）電源技（jì）術，減小輸出儲（chǔ）能元件，
同（tóng）時提高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更（gèng）為明顯。
   B 具（jù）備恒流/恒（héng）功率模式可選。恒功率模式相對於傳統的恒流模式，
更能保證（zhèng）鍍膜工藝的重複性。
  C 具有理（lǐ）想的電壓陡降特性，自（zì）動識別偽打火現象（xiàng），
充分滿足磁控濺射工藝過程的連續（xù）性。
  D 主要參數可大範圍調（diào）節
  E 可選擇手動控製/模（mó）擬（nǐ）量接口控製（zhì），可選配RS485通訊接口。
  F 采用進（jìn）口大功率IGBT&MOS模塊
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製（zhì）技術，使用進口（kǒu）IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完（wán）善。
該係列產品（pǐn）采用先進的DSP控製係（xì）統，充分（fèn）保證鍍膜工藝的重複性（xìng），
並且具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力（lì），既保證了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清（qīng）洗速度；
主要參數均可大範圍連續（xù）調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控（kòng）製。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技（jì）快速發展（zhǎn）的時代中，電源的（de）應用可以說是隨處可見的，或許正（zhèng）是因為電源的（de）普遍應用（yòng），所以電源的（de）類型也隨之而多樣。真（zhēn）空鍍膜（mó）電源是眾多電源類型（xíng）中的（de）一種，這（zhè）種電源與普通（tōng）的電源有一定（dìng）的區別（bié），單是電源（yuán）的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍膜機光學鍍膜加工上有什麽要注意的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣（qì）進（jìn）入玻璃（lí）），大約有5%會被反射掉，在光學瞄（miáo）準鏡中有（yǒu）許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以（yǐ）讓入射光線損（sǔn）失（shī）達30%至40%。現代光學透（tòu）鏡通常都鍍有單層或多層氟化（huà）鎂的增透膜，單層增透膜可使（shǐ）反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個（gè）瞄準鏡（jìng）如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色，鍍多（duō）層（céng）增透膜的鏡（jìng）片（piàn）則呈淡綠色或暗紫色。

真空鍍膜機（jī）增透膜增加透射光強度的實質是作為電磁波的光波（bō）在傳播的過（guò）程（chéng）中，在（zài）不同介質（zhì）的分界（jiè）麵上，由於（yú）邊界條件（jiàn）的不同，改變了其能量的分布。對於單層薄膜來說，當（dāng）增透膜兩邊介質不同時（shí），薄膜厚度為1/4波（bō）長的奇（qí）數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分（fèn）別是介質（zhì）1、2的（de）折（shé）射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透鏡都是在空氣中使用，對於（yú）一般折射率在1.5左右（yòu）的光學玻璃，為（wéi）使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或（huò）接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一（yī）特定波長的電（diàn）磁波增透，為使在更大範（fàn）圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多層膜來實現。

人們對增透膜的利用有了很多的經驗（yàn），發現（xiàn）了不少可以作為增透膜的材料；同時也掌握了不少先進的（de）鍍膜技術（shù），因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出（chū）了重（chóng）大貢獻。