浙江（jiāng）MSD係列直流磁控濺射（shè）電源（yuán）

主要型號：

主要特點：
   A 采用先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提（tí）高了抑製打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍（dù）膜優勢（shì）更為明顯。
   B 具備恒流/恒功率模式可選。恒功率模式相對於（yú）傳（chuán）統（tǒng）的恒流模式（shì），
更能保證鍍膜工藝的（de）重複（fù）性。
  C 具有（yǒu）理想的電壓陡降特性，自動識別偽打火現象，
充分滿足（zú）磁控濺射工（gōng）藝過程（chéng）的連續性。
  D 主要參數可大範圍調節
  E 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率（lǜ）IGBT&MOS模塊
采用先進（jìn）的PWM脈寬調製技（jì）術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重（chóng）量輕、功能（néng）全（quán）、性能穩定可靠，生產工藝嚴格完善。
該（gāi）係列產品（pǐn）采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光（guāng）放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力，既保證（zhèng）了靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶（bǎ）麵清（qīng）洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節（jiē）；
方便維護，可靠性高；
PLC接（jiē）口和RS485接口擴展功能，方（fāng）便實現自動（dòng）化控製。

主（zhǔ）要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電子科技快速發展的時代中，電源的應用可以說是（shì）隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應（yīng）用，所（suǒ）以電源的類型也隨之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電（diàn）源類型中（zhōng）的一種，這種電源與普通的電源有（yǒu）一定的區別，單（dān）是電（diàn）源的外觀就有明顯的不同。

     真空鍍（dù）膜機光（guāng）學鍍膜加工上（shàng）有什麽要注意（yì）的嗎？當光線進入不同傳遞物質時（如由空氣進入玻（bō）璃），大約有5%會被（bèi）反射掉，在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡，整個加起來可以讓入射（shè）光線損失達30%至40%。現代光學透鏡通常都鍍有單層（céng）或多層氟化鎂（měi）的增透膜，單（dān）層（céng）增透膜可使反射減少至1.5%，多層增透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是（shì）藍紫色或是紅色，鍍多層（céng）增透膜的鏡片則呈淡（dàn）綠色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透射光強度的實（shí）質是作為電磁波的光波在（zài）傳播的過程中，在不同介（jiè）質的分界麵上，由於邊界條件的不同，改變了其能量的分布。對（duì）於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質不同時，薄膜厚度為1/4波長的（de）奇數倍且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（分別是介（jiè）質1、2的折（shé）射率），才可以使入射光全部透過介質。一般光學透（tòu）鏡都是在空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學玻璃，為使單層膜達到100%的增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜隻對某一特定波長的電磁波增（zēng）透（tòu），為（wéi）使在更大範圍內和更多波（bō）長實現增透，人們（men）利用（yòng）鍍多層膜來實現。

人們對增透（tòu）膜的（de）利用有了很多的經驗，發現了不（bú）少可以作為增透膜的材料（liào）；同時也掌握了不少先進的鍍（dù）膜技術，因此增（zēng）透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類（lèi）科技進步作（zuò）出了重大貢獻。