 
    主(zhǔ)要型號:
| 型號 | 功率(kW) | 工作峰值電壓(V) | 最大工作電流(A) | 最大峰(fēng)值電(A) | 主機外形尺寸 | 冷卻(què)方式 | 
| HVP-2500V | 2.5 | 2.5kV | 2.5A | 50 | 482*175*550 (WHD)[4U] | 風冷 | 
| HVP-3500V | 2.5 | 3.5kV | 1.5A | 30 | 
主要特點:
   A具有(yǒu)行動(dòng)穩定電壓功能,具有理想的(de)電(diàn)壓陡降特性,
有效抑(yì)製工件表麵打火,明顯提高鍍件的成品率、表麵(miàn)光(guāng)潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰(fēng)值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz,占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製,可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積(jī)小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工(gōng)藝嚴格完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係統,充分保證鍍(dù)膜工藝的重複(fù)性(xìng),
並且具有抑製靶材弧光放電(diàn)及抗短路(lù)功能(néng),
具有極佳(jiā)的(de)負載(zǎi)匹配能力,既保證了靶麵清洗工(gōng)藝的穩(wěn)定性,又提高了靶麵清洗(xǐ)速度;
主要參數均可(kě)大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口(kǒu)擴展功能,方(fāng)便實現自動化控製。
主要用途:
高(gāo)壓窄脈衝電源適(shì)用於特(tè)殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝(huī)光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速(sù)等。
社會不斷發展,技術也是不斷得在創新。真空鍍膜(mó)電(diàn)源的運用範圍是(shì)越來越(yuè)廣泛了(le),真空鍍膜技術是一種(zhǒng)新穎的材料合成與加工的新技術,是表麵工程技術領(lǐng)域的重要組成部分。隨著(zhe)全球製造業高速(sù)發展,真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半(bàn)導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光(guāng)伏、化(huà)工、製藥(yào)等行業的發展來看(kàn),對真空鍍膜設備、技術材(cái)料需求都在不斷增加,包括製造大規模集成電路的電學膜(mó);數字式縱向與(yǔ)橫向均可磁化的數據記錄(lù)儲存膜;充分展示和應用各種光學特性的光學膜;計(jì)算機顯示用的感光膜;TFT、PDP平麵顯示器上的導電膜和增透膜;建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜;包裝領域用防護膜、阻隔(gé)膜;裝飾材料上具體各種功(gōng)能裝飾效果的功(gōng)能膜;工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜;納(nà)米材料研究方麵的各種功能性薄膜等。對於國內真空鍍膜(mó)設備製造(zào)企(qǐ)業發展建議如下:

1、目前實體經濟走勢整體疲弱,複(fù)蘇充滿不確定性,經濟處於繼續探底過程(chéng),真空鍍膜設備製造企業應(yīng)著力進行產業結構優化升(shēng)級,重質量、重服務明確市場定位,大力研發擁有自主知識產權的(de)新產品新工藝,提高產品質量(liàng)和服務(wù)水平。
2、依托信息化發展趨勢,堅持“以信息化(huà)帶動工業化,以工業化促進信息(xī)化”,走出一條科(kē)技含量高、經濟效益(yì)好、資源消(xiāo)耗低、環(huán)境汙染(rǎn)少、人力資源優勢得到充(chōng)分發揮的新型工業化路子。
3、依托政府(fǔ)支持,大力加(jiā)強與擁有(yǒu)行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作,使得新(xīn)品能迅速(sù)推向(xiàng)市場。
真空鍍(dù)膜(mó)技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等(děng)製造業將以信息化融合為重心,依靠技術進步(bù),更加注重技術能力積累,製造偏向服務型(xíng),向世界真空鍍膜(mó)設備行業等(děng)製造業價(jià)值鏈高端挺進。