上海MSD係（xì）列直流（liú）磁控濺射電源

主要型號：

主要特點：
   A 采用（yòng）先進的電流型開關電源技術，減小輸出儲能元件，
同時提高了抑製（zhì）打火及重啟速度，應用在鋁靶鍍膜優勢更為（wéi）明顯。
   B 具備恒流/恒（héng）功率模式可選。恒功率模式相對於傳統（tǒng）的恒流模式，
更能保（bǎo）證鍍膜工（gōng）藝的重複性。
  C 具有理想的電壓（yā）陡降特性，自（zì）動識別偽（wěi）打火現象，
充分滿足磁控濺射工（gōng）藝過（guò）程的連續性。
  D 主（zhǔ）要參數可大範（fàn）圍（wéi）調節（jiē）
  E 可（kě）選擇手動控製（zhì）/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口。
  F 采用進口大功率（lǜ）IGBT&MOS模塊
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功（gōng）率開關器件，
體積小（xiǎo）、重量輕（qīng）、功能全、性能穩定可靠，生產（chǎn）工藝嚴格完善。
該係列產品采用先進（jìn）的DSP控製（zhì）係（xì）統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放電及抗（kàng）短路功能（néng），
具有極佳的負載匹配能力，既（jì）保證（zhèng）了靶麵（miàn）清洗工藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動（dòng）化控製（zhì）。

主要用途：

直流磁控濺射用於鍍製各種金屬

在電（diàn）子科技快速發展的時代中，電源的應用可以（yǐ）說是隨處可見的，或許正是因為電源的普遍應（yīng）用，所以電源的類型也隨（suí）之而多樣。真空鍍膜電源是眾多電（diàn）源類型中的一種，這種電源與普通的電源有一定的區別，單是電源的外觀就有明（míng）顯的不同。

     真空鍍膜機光學（xué）鍍膜加工上有什（shí）麽要注意的嗎？當光線進入不同（tóng）傳遞物質時（如由空氣進入玻璃（lí）），大約有5%會被反射掉，在光學瞄準鏡（jìng）中有許多透鏡和折射鏡（jìng），整個加起來可以（yǐ）讓入射光線損失達30%至40%。現（xiàn）代光學（xué）透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜（mó），單層增透（tòu）膜可使反（fǎn）射減少至1.5%，多層增（zēng）透膜則可讓反射降低至0.25%，所以整個瞄準鏡如果加以適當鍍膜，光線透穿率可達95%。鍍了單層增透膜的鏡片通常是藍紫色或是紅色（sè），鍍多層增透膜（mó）的鏡片則呈淡綠（lǜ）色或暗紫色。

真空鍍膜機增透膜增加透（tòu）射光強度的實質是作為電磁波（bō）的光波在（zài）傳播的過程（chéng）中，在不同介質的（de）分界麵上（shàng），由（yóu）於邊界條件的不同，改變了其能（néng）量的分布。對於單層薄膜來說，當增透膜兩邊介質（zhì）不同時，薄膜（mó）厚度為1/4波長的奇數倍（bèi）且薄膜的折射率n=（n1*n2)^(1/2)時（shí）（分別是介質1、2的折射率（lǜ）），才可以使入（rù）射光全（quán）部（bù）透過介質。一般光學透鏡都是在（zài）空氣中使用，對於一般折射率在1.5左右的光學（xué）玻（bō）璃，為使單層膜達到100%的（de）增透效果，可使n1=1.23，或接近1.23；還要使增透薄膜（mó）的厚度=（2k+1)倍四分之一個波長。單層膜（mó）隻（zhī）對某一（yī）特定波（bō）長的電磁波增（zēng）透，為使在更大範圍內和更多波長實現增透，人們利用鍍多（duō）層膜來實（shí）現。

人們對增透膜（mó）的利用有了很多的經驗，發現了不少可（kě）以作為增透膜的材料（liào）；同時也掌握了不少先進的（de）鍍膜技術，因此增透膜的應用涉及醫學、軍事、太空探索等各行各業，為人類科技進步作出了重大（dà）貢獻（xiàn）。