江蘇HVP高壓窄脈衝電（diàn）源

主要型號：

主要特（tè）點：
   A具有行（háng）動穩定電壓功能，具（jù）有理想的電壓陡降特性，
有效抑（yì）製工件表麵打火，明顯提高鍍件的（de）成品率、表麵（miàn）光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選（xuǎn）擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接口（kǒu）。
采用先進的（de）PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開（kāi）關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩（wěn）定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善（shàn）。
該係列產品采用先進的DSP控製係統，充分保證鍍膜工藝的重複性，
並且（qiě）具有抑製靶材弧光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既（jì）保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提（tí）高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和（hé）RS485接（jiē）口擴展功能，方便（biàn）實現自（zì）動化控製。

主要用途（tú）：

高壓窄脈（mò）衝電源適（shì）用於特殊鍍膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜（mó）前的離（lí）子轟擊和鍍膜時的離子加速（sù）等。

社會不斷發展，技術也是（shì）不斷（duàn）得在創新。真（zhēn）空（kōng）鍍（dù）膜電源的運用範圍（wéi）是越來越廣泛了，真空鍍膜（mó）技術是一種新穎的材料合成（chéng）與加工的新技術，是（shì）表麵工程技術領域的重（chóng）要組成部分（fèn）。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應（yīng）用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都在不斷增加，包括製造大規模集成（chéng）電路的電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的數據（jù）記錄儲存膜；充（chōng）分展示和應用（yòng）各種（zhǒng）光學特（tè）性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器上的導（dǎo）電膜和增透膜（mó）；建築、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和（hé）裝（zhuāng）飾膜；包裝領（lǐng）域用防（fáng）護膜、阻隔膜；裝飾材料上（shàng）具體各種功能裝飾效（xiào）果的功能膜；工、模具表（biǎo）麵上應用的耐磨超硬膜；納米材料研究方麵的各種功能（néng）性薄膜等。對於國內真空鍍（dù）膜設（shè）備製造企業發展建議如下：

1、目前實體經濟走勢整體疲弱，複（fù）蘇充滿不確定性（xìng），經（jīng）濟處於繼（jì）續探底過程，真空鍍膜設（shè）備製造企業應著力（lì）進（jìn）行產業結構（gòu）優化升級，重質量、重服（fú）務明（míng）確市場定位，大力研發擁有（yǒu）自主知識產權的新產品新工藝（yì），提高產品質（zhì）量和服務水（shuǐ）平。

2、依托信息化（huà）發展（zhǎn）趨勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出（chū）一條（tiáo）科技含量高（gāo）、經濟效益（yì）好、資源消耗低（dī）、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政（zhèng）府支持，大力（lì）加強與擁有行業先進技術和工藝水平（píng）的（de）科研院所（suǒ）、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推向市（shì）場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等（děng）製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進（jìn）步，更加注重技術（shù）能力積累，製造偏向服務型，向世界（jiè）真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。