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真空鍍膜電源廠家
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北京ISP離子源電(diàn)源

北京ISP離子源電源

  • 所屬分類(lèi):北京(jīng)ISP離子源電源
  • 瀏覽次數:
  • 發布(bù)日期:2020-05-21 14:06:32
  • 產(chǎn)品概述(shù)
  • 性能特點
  • 技術參數

主要型號:


型號

功率(W)

工作峰值電壓(V)

最 大工作電(A)

主機外形尺寸

冷卻方式

ISP2000V

700

2kV

0.35A

482*175*550

(WHD)[4U]


風冷




主要特點:
   A具有行動穩(wěn)定電壓功能,具有理想的電壓(yā)陡(dǒu)降特性,有效抑(yì)製離子(zǐ)源源頭表麵打(dǎ)火。
   B 直流疊加脈衝輸出,峰值可達2000V。
   C 頻率(lǜ)40kHz,占空比45%~90%。
   D 可選擇手動控(kòng)製/模(mó)擬量接口控製,可(kě)選配RS485通(tōng)訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術,使用進(jìn)口IGBT或MOSFET作為功率開關器件,
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠,生產工藝嚴格完善。
該(gāi)係列產品采用(yòng)先(xiān)進的DSP控製係統,充分保證鍍膜工藝的重複性,
並且具有(yǒu)抑製靶材弧光放電及抗(kàng)短路功能,具
有極佳的(de)負載匹配能力,既保證了靶麵清洗(xǐ)工藝的穩(wěn)定性,又提(tí)高了靶(bǎ)麵清洗速度;
主要參數均(jun1)可大範圍連續調節;
方便維護,可靠性高;
PLC接口和RS485接口擴展功能,方便實現自動化控製(zhì)。


主要用途:

ISP離子源電源適用於陽極(jí)層離子源驅動電源。




隨著電力電(diàn)子技(jì)術的高速(sù)發展,電子設備與(yǔ)人們的工作、生活關係日益密切,而電子設備(bèi)都離不開可靠的電源。作為(wéi)設備製造領域必不可少的電子元器件之一,大功率(lǜ)開關電源廠家的(de)開關電源技術隨著電力電(diàn)子技術的發展和創(chuàng)新而在不斷創新。目(mù)前,市場上存在的開關電源種類繁多,開關電源廠家更是不計其數,隨著設備製造商對電源開關種類的多樣化需求,開關電源製造商在不斷生產出更多種類的開(kāi)關電源。現在計算機、通訊、電子設備以及家用電器設備(bèi)等多種領域都在廣泛的使用開關電源(yuán),這些領域設備更新迅速,產品淘汰率高,所(suǒ)需(xū)的開關電源種類總在不斷更替(tì),更(gèng)加(jiā)促進(jìn)了開關電(diàn)源市(shì)場的迅猛發展。

大功率(lǜ)開關電(diàn)源(yuán)廠家

在信息存儲(chǔ)領域中:薄(báo)膜材料作為信(xìn)息記錄於存儲介質,有其得天獨厚的(de)優勢:由於薄膜很薄,可以忽(hū)略渦流損耗;磁(cí)化反轉極(jí)為(wéi)迅速;與膜麵平行的雙穩態狀態容易保持(chí)等。為了更精密地記錄與(yǔ)存儲信息,必然要采用鍍膜技術。


在(zài)集成電路製造(zào)中:晶體管路(lù)中的保護層(SiO2、Si3N4)、電極管線(多晶矽、鋁、銅及其合金)等,多是采(cǎi)用CVD技術、PVCD技術、真空蒸發金屬技術、磁控濺射技術和射頻(pín)濺射技術。可見,氣相沉積是製(zhì)備集(jí)成電路的核心技術之一。


電源作為各種電子設備不可獲取的組成部分,其性能(néng)優劣直接關係到電子設(shè)備的技術指標級能否安全可靠。如今的開關電源由於本身(shēn)低能量消耗和較高(gāo)的電源效(xiào)率而取代了早期(qī)效率低、耗能高的(de)線性電源,被(bèi)廣泛用(yòng)於電子計算機、通訊、家電等各(gè)個行(háng)業,被譽為高效節能型電源。


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