北（běi）京（jīng）HVP高壓窄脈衝電源

主要型號：

主要特點：
   A具有行動（dòng）穩定（dìng）電壓功能，具有理想的電（diàn）壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火，明（míng）顯提高鍍（dù）件的成品率、表麵光潔度和膜層結（jié）合力。
   B 電壓（yā）脈衝（chōng）輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度（dù）25uS)。
   D 可選擇手（shǒu）動控製/模擬量（liàng）接口控（kòng）製，可選配RS485通訊接口。
采用先進的PWM脈寬調製技術，使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積（jī）小、重量輕、功（gōng）能全、性能（néng）穩定（dìng）可靠，生產工藝嚴格完善。
該係列（liè）產（chǎn）品采（cǎi）用（yòng）先（xiān）進的（de）DSP控製係統（tǒng），充分保證（zhèng）鍍膜工藝的（de）重複性，
並且具有抑製靶材弧（hú）光放電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配（pèi）能力（lì），既保證了靶麵清洗（xǐ）工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗（xǐ）速度；
主（zhǔ）要參數均可大範圍連（lián）續調節；
方（fāng）便（biàn）維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自動化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源（yuán）適用於特殊鍍膜工藝時（shí）被鍍工（gōng）件表麵（miàn）的輝光清洗、鍍膜前的離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會（huì）不斷發（fā）展，技術也是不斷得在創新。真空鍍膜電源的（de）運用範圍是越來（lái）越廣泛了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加（jiā）工的新技術，是（shì）表麵（miàn）工程技術（shù）領域的重要組成部分。隨著全球製造業高速發展，真空鍍膜（mó）技術應用越來越廣泛。從半導體集成（chéng）電（diàn）路（lù）、LED、顯示器（qì）、觸摸屏、太陽能光伏、化工、製（zhì）藥（yào）等行業的發展來看，對真（zhēn）空鍍膜設備、技術（shù）材料需求都在不斷（duàn）增加，包括製造大規模集成電路的電學膜；數字式縱向與（yǔ）橫向均（jun1）可磁化的數據記錄儲存膜；充分展示和應用各種光學（xué）特性的光學膜；計算機顯示用的感光（guāng）膜；TFT、PDP平麵（miàn）顯示器上的導電膜和增透膜；建築、汽車行業上（shàng）應用（yòng）的（de）玻璃鍍膜和裝飾膜；包（bāo）裝領域用防護膜、阻隔膜；裝飾材料（liào）上具體各種功能裝飾效果的功能膜；工、模具表麵上應用的耐磨超硬膜；納米材（cái）料研究方麵的各種功（gōng）能性薄膜等。對於國內真空鍍膜設備製造企業發展建議如下（xià）：

1、目前實體經（jīng）濟走勢整體（tǐ）疲弱，複蘇充滿（mǎn）不確定性，經濟處於繼（jì）續探底過程，真空（kōng）鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構優（yōu）化（huà）升級，重質量、重服務明確市場定（dìng）位，大力研發擁有自主知識產（chǎn）權的新產品新工藝，提（tí）高產品質量和服務水平。

2、依托信息化發（fā）展趨（qū）勢，堅持“以信息化帶動工業化，以工業（yè）化促（cù）進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境（jìng）汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新（xīn）型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加（jiā）強與擁有行業先進技（jì）術和工藝水（shuǐ）平的科研院所（suǒ）、大型企業、高校合作（zuò），使得新（xīn）品能迅速（sù）推向市場。

真空鍍膜技術及設備擁有十分（fèn）廣闊的應用（yòng）領域和發展前景。未來真空（kōng）鍍膜（mó）設備行業等製造業將以信息化融合為重心，依靠技術進步，更加注重技術能力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行（háng）業等製（zhì）造業價值鏈高端挺進。