浙江HVP高壓窄脈衝（chōng）電（diàn）源

主要型（xíng）號（hào）：

主要特點：
   A具有行動穩定電（diàn）壓功能，具有理（lǐ）想的電壓陡降特性，
有效抑製工件表麵打火（huǒ），明（míng）顯提高鍍件的（de）成品率、表麵光潔度和膜層結合力。
   B 電壓脈衝輸出峰值可達3500V。
   C 頻率1k~2kHz，占空比1%~5%(最 大脈衝寬度25uS)。
   D 可選擇手動控製/模擬量接口控製，可選配RS485通訊接（jiē）口。
采用先進的PWM脈寬調製技術（shù），使用進口IGBT或MOSFET作為功率開關器件，
體積小、重量輕、功能全、性能穩定可靠，生產工藝嚴格（gé）完善。
該係列產品采用先進的DSP控製係（xì）統，充分保（bǎo）證鍍（dù）膜工藝的重複性，
並且具有抑製靶材弧光放（fàng）電及抗短路功能，
具有極佳的負載匹配能力，既保證了（le）靶麵清洗工藝的穩定性，又提高了靶麵清洗速度；
主要參數均可大範圍連續調節；
方便維護，可靠性高；
PLC接口和RS485接口擴展功能，方便實現自（zì）動（dòng）化控製。

主要用途：

高壓窄脈衝電源適用於特（tè）殊鍍（dù）膜工藝時被鍍工件表麵的輝光清洗、鍍膜前的（de）離子轟擊和鍍膜時的離子加速等。

社會（huì）不斷發展，技術也是不斷得在創新。真（zhēn）空鍍膜電源的運（yùn）用範圍是越（yuè）來越（yuè）廣泛（fàn）了，真空鍍膜技術是一種新穎的材料合成與加（jiā）工的新技術，是表麵工程技術領域的重要組成部分。隨（suí）著全球製造業高速發展，真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光（guāng）伏、化工、製藥等行業的發展來看，對真空鍍膜設備、技術材料需求都（dōu）在不斷增加，包括製造大（dà）規模集成電路的（de）電學膜；數字式縱向與橫向均可磁化的（de）數據記錄儲存膜；充分展（zhǎn）示和應（yīng）用各種光學特性的光學膜；計算機顯示用的感光膜；TFT、PDP平麵顯示器（qì）上的導電膜和增（zēng）透膜（mó）；建築、汽車行業（yè）上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜；包裝領域用防（fáng）護膜、阻隔膜；裝飾材料上（shàng）具體（tǐ）各種（zhǒng）功能裝飾效果的功能膜；工、模具（jù）表麵上應用的耐磨超（chāo）硬膜；納米材料研究方麵的各（gè）種功能性薄膜等。對於國內（nèi）真空鍍膜設備（bèi）製造企業發展（zhǎn）建議（yì）如下：

1、目前實體經（jīng）濟走勢整體疲弱，複蘇充滿不確定性，經濟處於繼續探底過程，真空鍍膜設備製造企業應著力進行產業結構優化升級，重（chóng）質量、重服務明確（què）市場定位，大力研發擁有自（zì）主知識產權的新產品新工藝，提高產品質（zhì）量和服務水平。

2、依（yī）托信息化發展趨勢，堅持“以信息（xī）化帶動工業化，以工業化促進信息化”，走出一條科技含量高、經濟效益好、資源消耗低、環境汙染少、人力資源優勢得到充分發揮的新型工業化路子。

3、依托政府支持，大力加強與擁有行業先進技術和工藝水平的科研院所、大型企業、高校合作，使得新品能迅速推（tuī）向市場。

真空鍍膜（mó）技術及設（shè）備擁有十（shí）分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設備行業等製造業將以信息化融合為（wéi）重心（xīn），依靠技術進步，更加注重技術能（néng）力積累，製造偏向服務型，向世界真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高（gāo）端挺進。