脈衝磁控濺射是一種用矩形波電壓脈衝電源代替傳統直流電源的方法。脈衝濺射可（kě）以有效抑製電弧的產（chǎn）生，消除由此產生的薄膜缺陷（xiàn），同時可以提（tí）高濺射（shè）的沉積速率（lǜ），降低沉積溫度等一係列顯著優點，是濺（jiàn）射（shè）絕緣材料沉積的工藝。脈衝磁（cí）控（kòng）濺射的工作原理一個周期有正（zhèng）電壓