脈衝磁控濺射是一種用矩形波電（diàn）壓脈衝電（diàn）源代替傳統直流電（diàn）源的方（fāng）法。脈衝濺射可以有效抑製電弧的產生（shēng），消除由此產生的薄（báo）膜缺陷，同時可以提高濺射的（de）沉積速率，降低沉（chén）積溫（wēn）度等一係列顯著優點，是濺射絕緣材料（liào）沉積的工藝（yì）。脈衝磁控濺射的工作原理一個周期有正（zhèng）電壓（yā）

說起單極脈（mò）衝磁控濺射電源，可能有點困惑，但我想說的是，它是（shì）對直流磁控濺射電源的升級（jí），是不是突然明（míng）白了（le）？脈衝磁控濺射是用矩形波電壓脈衝電源（yuán）代替傳統直流電源的（de）一種方法。脈衝（chōng）濺射可（kě）以有效地（dì）抑（yì）製電弧的（de）產生，消除由此產（chǎn）生的薄膜缺陷，同時可以提高濺射的