脈衝（chōng）磁控（kòng）濺（jiàn）射是一（yī）種用（yòng）矩形波電壓脈衝電源代替傳統直（zhí）流（liú）電源的方法。脈衝濺射可以有效抑製電弧的產生，消除由此產生的（de）薄膜缺陷，同時可以提高濺射（shè）的（de）沉（chén）積速率，降低沉積溫度等一係列顯著優點，是（shì）濺射絕緣（yuán）材料沉積的工藝。脈（mò）衝（chōng）磁控濺射的（de）工作原理一個周期有正電壓

說（shuō）起單極（jí）脈衝磁控濺射電源，可能有點（diǎn）困惑，但我想說（shuō）的是，它是對直流磁控濺射電源的（de）升級，是不是突然明白了？脈衝磁控濺射是用矩（jǔ）形（xíng）波電壓脈衝電源代替傳統（tǒng）直流電源（yuán）的一種方法。脈衝濺射可以有效地抑製電弧的產生，消除由此產生的薄膜缺陷，同時可（kě）以提高濺射的

直流（liú）磁控濺射和中頻（pín）磁控濺射是常見的濺（jiàn）射鍍膜工藝，但這（zhè）兩種常見的濺射工（gōng）藝有什麽區別1.直流磁控濺射（shè）濺射與（yǔ）氣壓（yā）的關係——要在一定範圍（wéi）內提（tí）高電離率(在盡可能低的（de）壓力下保持較高的電離率)，要提高均勻性，就要在保證（zhèng）膜的純度的同時增（zēng）加壓（yā）力，而要提高膜