南京(jīng)脈衝磁控電源廠家真空鍍膜(mó)電源的樶大特色及商品優勢(shì):選用了領先的PWM脈寬調製技術,具有傑出的動態特性和抗幹擾(rǎo)才能,動態呼應時刻(kè)小於10mS。規劃有電壓、電流(liú)雙閉環操控電路,可實時對輸(shū)出電壓電流的操控,能有(yǒu)用處理濺射過程中陰(yīn)極靶麵的不清潔導致弧光放電造成大電流衝擊導致電源的損壞疑(yí)問。選用數字化DSP操控技術,高品質脈衝(chōng)磁控電源廠家主動操控(kòng)電源的恒壓恒(héng)流狀況。在起弧和維弧時能主動疾速操控電壓電(diàn)流使起(qǐ)弧和維弧作業更安穩。具有電壓陡降特性,可充沛滿意磁控濺射的特殊要求(qiú)。電源的輸(shū)出電壓電流操(cāo)控精度小於0.2%。具(jù)有模擬量操控(kòng)接口,用戶(hù)的4-20mA信號能操控電源的電壓電流,電源(yuán)輸(shū)出4-20mA信號供(gòng)用戶的PLC顯現電(diàn)源的輸出電壓電流(liú)。 電源的(de)功率因數高達0.95,電源功率≥90%。
南(nán)京脈衝磁控電源廠家1.確定您需要的高壓電源(yuán)的樶高輸出電壓。從樶低電壓到樶高(gāo)輸出(chū)電壓連續可調。您隻要確認您需要的高壓電源的樶高電壓就可以了(le),如果您實際使用40KV,91av建(jiàn)議您選擇(zé)45KV就足(zú)以,不需要選擇太高的電壓。高品質脈(mò)衝磁控電源廠家3.確定您需要的高壓電源的樶高輸出功率。功率=電壓X電流(liú),但某些特殊高壓電源,比如X射線管高壓電源,功率,電壓,電流可以按照您的需要提出,在不超出功率(lǜ)的(de)要求下,電壓電流可以有多種組合(hé)。
南京脈衝磁控(kòng)電源廠家1、DEF-6B電子槍電源櫃的操作:1)打開(kāi)總電源2)同(tóng)時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控製Ⅱ電源:按電子槍控製Ⅰ電(diàn)源、延(yán)時開關,延時、電源及保護燈亮,三分鍾後延時及(jí)保護燈(dēng)滅,若後門未關好或(huò)水流繼電器有故障,保護燈會常(cháng)亮(liàng)。3)開高壓(yā),高壓會達到10KV以(yǐ)上,調節束流可到200mA左右,簾柵為20V/100mA,燈絲電流1.2A,高品(pǐn)質脈(mò)衝磁控電(diàn)源廠(chǎng)家偏轉(zhuǎn)電流在1~1.7之間擺動。2、關機順序:1)關高(gāo)真空表頭、關分子泵。2)待分子(zǐ)泵顯示到50時(shí),依次關高閥、前級、機(jī)械泵,這期間約需(xū)40分鍾(zhōng)。3)到50以下時,再關維持泵(bèng)。
南京脈衝磁控電(diàn)源廠家依(yī)托政府支持,大力加強與擁有行業先進技術和(hé)工藝(yì)水平的科研院所、大型企業、高校合作,使得新品能迅(xùn)速推向市(shì)場。高品質脈衝(chōng)磁控電源廠家真空(kōng)鍍(dù)膜技術及設備擁有十分廣闊的應用領域和發展前景。未來真空鍍膜設(shè)備行業等製造(zào)業將以信息化融合為重心(xīn),依(yī)靠技術進(jìn)步,更加注重技術能力積累,製造偏向服(fú)務型,向世界(jiè)真空鍍膜設備行業等製造業價值鏈高端挺進。
南京脈衝磁控電源廠家(jiā)1、電控櫃的操作:1)開水泵、氣源。2)開總電源。3)開維持泵、真空計電源,真空計檔位置V1位置(zhì),等待其值小於10後,高品質脈衝磁控電源廠家再進入下一步操作。約需5分鍾(zhōng)。4)開機械泵(bèng)、予抽,開渦輪分(fèn)子泵電源、啟動,真空計開關換到V2位置,抽到小於2為止,約需20分(fèn)鍾。5)觀察渦輪分(fèn)子泵讀數到達250以後,關予抽,開(kāi)前(qián)機和(hé)高閥繼續抽真空,抽真空(kōng)到達一定程度後才能開右邊的高真空表(biǎo)頭,觀察真空度。真(zhēn)空到達2×10-3以後才(cái)能開電子槍電源。
南京脈衝磁控(kòng)電源廠(chǎng)家真空鍍膜電源為什麽在現在會應用那麽多呢(ne),有哪些明顯的效果?概念的區別1、高品質脈衝磁控電源廠家真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱(rè)金屬或(huò)非金屬材料(liào),使其蒸發(fā)並凝結於鍍件(金屬、半導體(tǐ)或絕緣體(tǐ))表麵而形成薄膜的一種(zhǒng)方法。例如,真空鍍鋁、真空鍍(dù)鉻等。2、光學鍍膜是(shì)指在光學零件表麵上鍍(dù)上(shàng)一層(或多層(céng))金屬(或介質)薄膜的工藝過程。在光(guāng)學零件表麵鍍(dù)膜的目的是為了(le)達到減少或增加光的反射、分束、分(fèn)色、濾(lǜ)光、偏振等要求。常用(yòng)的鍍膜(mó)法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學鍍膜。
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