肇（zhào）慶優質勵磁電源設備（bèi）廠

肇慶勵磁電源設備廠真空鍍膜技術我（wǒ）們（men）都不陌生，真空鍍膜就是置待鍍材料和被（bèi）鍍基板於真空室內（nèi），采用一定方法加熱待鍍材料，使（shǐ）之蒸發或升華，並飛行濺射到被鍍基板表麵凝聚（jù）成膜的工藝。雖然真空鍍（dù）膜（mó）技術工業化的時間並不長，優質勵磁電源設備廠隻有短（duǎn）短的十餘年時間，但其發展相當迅速。作為一種（zhǒng）環保無公害（hài）的技術，特別是在（zài）節（jiē）約能（néng）源、降低（dī）成本、擴大（dà）塑膠附加功能等（děng）方（fāng）麵日益顯示出（chū）它的眾（zhòng）多優越性。在日常生活和科學技術上起到的作用也（yě）日益顯著，越來越受到廣（guǎng）大科技研發人員的重視和歡迎。

肇慶勵磁電源設備廠1、DEF-6B電子槍電源櫃的操作：1)打開（kāi）總電（diàn）源2)同時開電子槍控製Ⅰ和電子槍控（kòng）製Ⅱ電源：按電子槍控製Ⅰ電源、延時開關，延時、電源及保護燈亮（liàng），三分鍾後（hòu）延時及保護燈滅，若後門未關好或水（shuǐ）流（liú）繼電器有故障（zhàng），保護燈會常（cháng）亮。3)開高壓，高壓會達到10KV以上，調（diào）節束流可到200mA左右，簾柵為20V/100mA，燈絲電流1.2A，優質勵磁電源設備廠偏轉電流在1~1.7之間擺動。2、關機順序（xù）：1)關高真空表頭、關分（fèn）子泵。2)待分子泵顯示（shì）到50時，依次關高閥、前級（jí）、機械泵（bèng），這期間約需40分鍾。3)到50以下時（shí），再關（guān）維持泵。

肇慶勵磁電源設備廠1.體積：根據您的需要，選擇合適體積（jī）的高壓電源，同等電壓，電（diàn）流，功率（lǜ）的情況下，體積越小，價格越貴.2.穩定度：根據您的需要，選擇合適的穩定度，同等電壓，電流（liú），功率的情況下，穩定度越高，價格越貴。3.優質勵磁電源設備廠溫度漂移：指高壓電源的溫度每變化1攝氏度，輸出電壓的變化情況。同等電（diàn）壓，電流，功率的情況下，溫度（dù）漂移越小，高（gāo）壓電源價格（gé）越（yuè）貴。

肇慶（qìng）勵磁電源（yuán）設（shè）備廠真空鍍膜（mó）電源的樶大特色及商（shāng）品優勢：選用了領先的PWM脈寬調製技（jì）術，具有傑（jié）出的動態特性和抗幹擾才（cái）能（néng），動（dòng）態呼應時刻小於10mS。規劃有電壓、電流雙閉環操控電路，可（kě）實時對輸出電壓電流的（de）操控，能有用處理濺射過程中陰極靶麵的不（bú）清潔導致弧光放電造成大電流衝擊導致電源（yuán）的（de）損壞（huài）疑問。選用數字化DSP操控技術，優質勵磁電源（yuán）設備廠主動操控電源的恒壓恒流狀況。在起弧和維（wéi）弧時能主動疾速操控電壓電流使起弧和維弧作業更安穩。具有電壓陡降特性,可充沛滿意磁控濺射的特（tè）殊要（yào）求。電源的輸出電壓電（diàn）流操控精度小於0.2%。具有模擬量（liàng）操控接口,用戶的（de）4-20mA信號能操控電源的電壓電流（liú），電（diàn）源輸出4-20mA信（xìn）號供用戶的PLC顯現電源（yuán）的輸出電壓電流。 電源的功率因數高達0.95，電源功率≥90%。

肇慶（qìng）勵磁電源設備廠使用說明1、產品拆開包裝（zhuāng）後檢查整體是否完好，並仔細閱讀使用（yòng）說明書，才可通電。2、產品暫（zàn）時不接任何負載情況（kuàng）下，接通交流電源。3、恒流使用方法：接入負載前（qián）調節電流旋鈕到（dào）最小值，電壓調節到用戶的（de）規定值（zhí），然後接通負載，順時針（zhēn）調節電流旋（xuán）鈕，觀察電流，達到規定的限流值，輸出電壓將（jiāng）隨負（fù）載大小發生變化。優質勵磁電源（yuán）設備廠注意（yì）：在恒流狀態下千萬不（bú）再去動電壓調節旋鈕（niǔ）。4、恒壓使用方法：首先是將電流旋鈕順時針調大，在調節電壓旋鈕達到規（guī）定值，此（cǐ）時電壓（yā）是恒定（dìng）值。

肇慶勵磁（cí）電（diàn）源設備廠鏡片在接受鍍膜前必須進行預清洗，這種清洗要求很高，達到分子（zǐ）級（jí）。在清洗槽中分別放置各種清洗（xǐ）液，並采用超聲波加強（qiáng）清洗效果（guǒ），當鏡片清洗完後，放進真空艙內，在此（cǐ）過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。優質勵磁電源設備廠最後的清洗是在真空艙內，在此（cǐ）過程中要特（tè）別注（zhù）意避免空氣中（zhōng）的灰（huī）塵和垃圾再黏附在鏡片表麵。最（zuì）後的清洗是在真空艙內鍍前進行的，放置在真空艙內的離子槍將轟擊鏡片的表麵（例如用氬離子（zǐ）），完成此道清洗工序後即進行減反射膜的鍍（dù）膜。